Установки быстрого термического отжига XREACT (печи с галогеновым нагревом)

Семейство лабораторных и промышленных печей с галогеновыми нагревателями (установок быстрого термического отжига). Рабочая камера и система подачи изделия изготовлены из кварцевого стекла. Печи данной серии обеспечивают очень быстрый нагрев и охлаждение благодаря высокой плотности энергии. Используются для нагрева в вакууме или в среде высокочистых газов, а также в других контролируемых средах. Могут комплектоваться специальным программным обеспечением для проведения циклических испытаний образцов. Благодаря специальной конструкции нагревателей, камеры и системы подачи объектов достигается высокая равномерность нагрева и точность поддержания заданной температуры.

Установки серии XRACT предназначены для проведения процессов высокосоростной температурной обработки полупроводниковых пластин и других образцов в контролируемой газовой среде или вакууме. В зависимости от требований технологического процесса заказчика может оснащаться различным числом каналов газонапуска, имеются модификации способные работать со cредами взрывоопасных и ядовитых газов. Установки серии XREACT предназначены как для использования в условиях промышленного производста, так и для лабораторных исследований и выпуска пилотных партий.

Основные применения:

- обработка полупроводниковых пластин
- фотоэлектрические технологии
- термообработка высокочистых металлов
- испытания

На примерах ниже представленны отдельные образцы установок данной серии. Характеристики каждой установки, как правило, формируются на основании технического задания заказчика. Спектр предлагаемого к поставке оборудования данной серии и его характеристик может быть значительно шире представленного в примерах.

Пример №1

Заказчик	Лаборатория промышленного предприятия
Максимальная температура	1200°С
Предельный вакуум	5 мбар
Скорость нагрева	До 80 К/с
Максимальный диаметр образцов	50 mm
Применение	Циклические термические испытания

Пример №2

Заказчик	Исследовательcкий институт
Максимальная температура	1250°С
Предельный вакуум	1E-5 мбар
Скорость нагрева	До 100 К/с
Минимальный диаметр образцов	100 мм
Применение	Термическая обработка полупроводниковых подложек, мелкосерийное производство

Опросный лист по термическому оборудованию

Каталог термического оборудования XERION (Германия)